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TPCEB-200 Niedrigenergetisches selbstabgeschirmtes Elektronenstrahlsystem

Das selbstabgeschirmte Niedrigenergie-Elektronenstrahlsystem TPCEB-200 ist eine kompakte, leistungsstarke Lösung für die Elektronenstrahlhärtung, Strahlungsmodifikation und Sterilisation bei Umgebungstemperatur. Als moderner Niedrigenergie-Elektronenbeschleuniger vereint das TPCEB-200 präzise Strahlsteuerung, exzellente Dosisverteilung und Schnittstellen in Industriequalität und eignet sich daher ideal für Labore, Pilotanlagen und industrielle Umgebungen.

    Wichtigste technische Spezifikationen des Elektronenstrahlsystems TPCEB-200

     

    Das Elektronenstrahlsystem TPCEB-200 bietet flexible Konfigurationsmöglichkeiten, um unterschiedlichen Verarbeitungsanforderungen gerecht zu werden:

     

    Elektronenstrahlenergie: 80–120 keV / 120–200 keV

     

    Strahlstrombereich: 0–75 mA, 100 mA, 200 mA, 500 mA, bis zu 1000 mA

     

    Ungleichmäßigkeit der Oberflächendosis: ≤ 3 %, wodurch eine gleichbleibende Bestrahlungsqualität gewährleistet wird

     

    Dosis-Durchsatz-Kombinationen:

     

    0–3000 kGy m/min

     

    0–6000 kGy m/min

     

    0–12000 kGy m/min

     

    Durch seine selbstabschirmende Konstruktion bietet das System eine erhöhte Strahlensicherheit bei gleichzeitig reduzierter Installationskomplexität, wodurch es sich für die Integration vor Ort ohne großflächige Abschirmungsinfrastruktur eignet.

     

    Elektronenstrahlbestrahlungsanlage 2.jpg

    Industrieschnittstellen und Produktionslinienintegration

     

    Das Niederenergie-Elektronenstrahlsystem TPCEB-200 unterstützt diverse industrielle Kommunikations- und Steuerungsschnittstellen, darunter Industrial Ethernet, Feldbussysteme, 4–20 mA- und 0–5 V-Signale. Diese Schnittstellen ermöglichen die nahtlose Synchronisierung mit automatisierten Produktionslinien und gewährleisten so eine stabile Strahlleistung und eine gleichbleibende Bestrahlungsdosis im Dauerbetrieb.

    Anwendungsgebiete des TPCEB-200 Niederenergie-Elektronenbeschleunigers

     

    Das TPCEB-200-System findet breite Anwendung sowohl in der industriellen Verarbeitung als auch in der wissenschaftlichen Forschung, unter anderem in folgenden Bereichen:

     

    Strahlungsmodifizierung von Polymerfolien und Textilien, wie z. B. PE, EVA, PVDC, EVOH, POF, EVA-Folien in Solarqualität und Batterieseparatoren

     

    Elektronenstrahlhärtung von Tinten, Beschichtungen und Klebstoffen auf Papier, Metall, Kunststoffen, Holz, Leder und verschiedenen Filmen

     

    Strahlungsvorvulkanisation von Gummi- und Reifenmaterialien zur Verbesserung der Verarbeitungseffizienz und der Produktleistung

     

    Strahlungsmodifizierung von Textilien, Fasern und fortschrittlichen Funktionsmaterialien

     

     Elektronenstrahlbestrahlungsanlage 3.jpg

    Im Vergleich zu herkömmlichen thermischen oder chemischen Verfahren bietet die Niederenergie-Elektronenstrahltechnologie hohe Bearbeitungsgeschwindigkeiten, präzise Dosiskontrolle, lösungsmittelfreien Betrieb und geringeren Energieverbrauch. Das selbstabgeschirmte Niederenergie-Elektronenstrahlsystem TPCEB-200 ist eine zuverlässige, effiziente und umweltfreundliche Lösung für Kunden, die fortschrittliche Anlagen zur Elektronenstrahlbehandlung für den globalen Markt suchen.