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TPCEB-500 Niedrigenergetisches selbstabgeschirmtes Elektronenstrahlsystem

Das selbstabgeschirmte Niedrigenergie-Elektronenstrahlsystem TPCEB-500 ist eine hocheffiziente Lösung für die Elektronenstrahlbearbeitung, die speziell für die Filmmodifizierung, Polymerveredelung und Strahlenvorvulkanisation entwickelt wurde. Dieses fortschrittliche Niedrigenergie-Elektronenstrahlsystem ist für die kontinuierliche industrielle Produktion ausgelegt und bietet präzise Dosiskontrolle, hohe Bearbeitungsgeschwindigkeit und herausragende Energieeffizienz. Damit ist es die ideale Wahl für Filmhersteller und Materialverarbeitungsunternehmen.

    1. Produktübersicht – TPCEB-500 Elektronenstrahlsystem

     

    Elektronenstrahlenergie350–500 keV

     

    Strahlstrom: 0–100 mA / 160 mA (entspricht 0–2000 kGy m/min)

     

    Scanbreite: 1400 mm / 1600 mm

     

    Ungleichmäßigkeit der Oberflächendosis: ≤ 3 %

     

    Die selbstabschirmende Konstruktion gewährleistet einen sicheren Betrieb und reduziert gleichzeitig die Installationskomplexität und den Abschirmungsaufwand.

     

    Elektronenstrahlbestrahlungsanlage 7.jpg

    2. Anwendungsgebiete des Elektronenstrahlsystems TPCEB-500

     

    Das Niederenergie-Elektronenstrahlsystem TPCEB-500 findet breite Anwendung in:

     

    (1) Strahlungsmodifizierung von EVA-Folien in Solarqualität, POF-Folien und anderen funktionalen Polymerfolien

     

    (2) Strahlungsmodifizierung von Textilgeweben und Vliesstoffen

     

    (3) Strahlenvorvulkanisation von Reifengummi, Polymerfolien, Schaumstoffen und verwandten Produkten

     

    Mit seiner Kombination aus hoher Effizienz, niedrigem Energieverbrauch, präziser Dosissteuerung und industrieller Zuverlässigkeit ist der TPCEB-500 eine ideale Lösung zur Modifizierung von Elektronenstrahlenfilmen für Hersteller, die eine fortschrittliche Materialleistung und Wettbewerbsvorteile auf den globalen Märkten anstreben.

    Wichtigste Vorteile der Elektronenstrahl-Filmmodifizierungstechnologie

    (1) Hohe Effizienz und hoher Durchsatz

    Der Elektronenstrahlenergiebereich liegt zwischen 350 und 500 keV und unterstützt Strahlstromoptionen von 0–100 mA und 160 mA. Dadurch wird eine hohe Strahlausbeute erzielt, die Bearbeitungsgeschwindigkeiten von bis zu 0–100 m/min ermöglicht. Dies gewährleistet einen stabilen Betrieb mit hohem Durchsatz für großflächige Filmmodifizierungs- und Polymerverarbeitungsanwendungen.

    (2) Integriertes Ab- und Aufwickelsystem

    Eine integrierte Ab- und Aufwickeleinheit ermöglicht das Starten und Stoppen per Knopfdruck, vereinfacht den Produktionsablauf und reduziert Bedienereingriffe. Diese Konstruktion erhöht die Prozessstabilität und verbessert die Gesamteffizienz der Produktion.

    (3) Niedriger Energieverbrauch

    Im Vergleich zu herkömmlichen Strahlungsverarbeitungssystemen wurde der Energieverbrauch deutlich reduziert; er lag bei etwa einem Drittel vergleichbarer Systeme. Dieser Vorteil hilft Herstellern, die Betriebskosten zu senken und gleichzeitig nachhaltige Produktionsziele zu unterstützen.

    (4) Sofortiger Start und einfache Bedienung

    Das Elektronenstrahlsystem benötigt keine Hochspannungsaufbereitung und unterstützt Plug-and-Play-Betrieb, was einen sofortigen Start und schnelle Produktionsumschaltungen ermöglicht. Diese Eigenschaft minimiert Ausfallzeiten und verbessert die operative Flexibilität in modernen Fertigungsumgebungen.


    Diese Vorteile machen die Elektronenstrahltechnologie zu einer umweltfreundlichen Alternative zu herkömmlichen chemischen oder thermischen Modifizierungsverfahren.

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