Systèmes à faisceau d'électrons des séries TPMEB-120 / 160 / 200
Principaux avantages et caractéristiques techniques
(1) Conception du faisceau d'électrons de type rideau
Assure une distribution uniforme de la dose sur toute la zone d'irradiation, idéale pour la précision de la recherche et la stabilité du processus.
(2) Structure compacte et légère
Conception compacte facilitant l'installation dans les laboratoires et les installations pilotes.
(3) Système de vide auto-entretenu
Aucune préparation sous vide préalable n'est requise, ce qui permet un démarrage rapide et un fonctionnement simplifié.
(4) Contrôle de faisceau de haute précision
Réglage précis de l'énergie et du courant du faisceau pour des résultats expérimentaux reproductibles.
(5) Excellente uniformité de dose
Convient à la recherche sur les matériaux sensibles et au traitement par rayonnement de haute qualité.
Domaines d'application des accélérateurs d'électrons de basse énergie
(1) Science et ingénierie des matériaux polymères
(2) Séchage par rayonnement de l'encre et du revêtement
(3) Durcissement du revêtement adhésif
(4) Traitement et modification de la surface métallique
(5) Stérilisation et désinfection à température ambiante
(6) Recherche en chimie et en science des matériaux
(7) Recherche biopharmaceutique et stérilisation
(8) Développement de nouveaux matériaux et recherche sur les matériaux fonctionnels
Grâce à son rendement élevé, son contrôle précis et ses caractéristiques de traitement propre, l'accélérateur d'électrons à basse énergie est une solution idéale pour les clients recherchant une technologie de traitement par rayonnement avancée pour la recherche, le développement et l'innovation industrielle.